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  • 管式二合一PECVD設備

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    管式二合一PECVD設備

    AlO+SiN薄膜沉積。


    設備名稱 Equipment Name

    管式二合一PECVD設備  Horizontal PECVD (Two-In-One)

    設備型號 Equipment Model

    PD-520/PD-520L/PD-520MAX

    設備用途 Equipment Application

    AlO+SiN薄膜沉積。

    AlOx+SiN deposition.


    技術特點  Features

    1、AlOx+SiN二合一同管完成,減少工藝環節,有效提升良率、降低碎片率。

    The AIOx & SiN layers can be coated in the same furnace tube which helps in reducing the process steps,improving the yield and lowering the breakage rate effectively.  

    2、單機產能優越的二合一配置方案。
    Optimal throughout solution: two-in-one configuration. 


    設備參數  Parameters


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